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發佈先進封裝低溫薄膜沉積系統,看好公司ALD&CVD設備快速放量
微導納米獲東吳證券增持評級,看好公司ALD&CVD設備快速放量
7月17日,微導納米獲東吳證券增持評級,近一個月微導納米獲得1份研報關注。根據東吳證券的研報,微導納米在“第十六屆集成電路封測產業鏈創新發展論壇(CIPA2024)”上首次發佈了自主研發的“先進封裝低溫薄膜應用解決方案”。該方案針對半導體領域2.5D和3D先進封裝技術的低溫工藝特殊需求而設計,能夠在50~200°C的低溫溫度區間內實現高均勻性、高質量、高可靠性的薄膜沉積效果。公司產品線已基本實現對
自研第三代臥爐CVD設備,「碳峯科技」實現千噸碳納米管量產 | 36氪早期項目
一位cvd設備內部人士上一年增持了20%的股份
CVD Equipment 任命 Andrew Africk 擴大董事會成員
安德魯·阿弗裏克報告稱截至5月28日CVD設備公司持有18.97%的股份——美國證券交易委員會備案
安德魯·阿弗裏克報告稱截至5月28日CVD設備公司持有18.97%的股份——美國證券交易委員會備案
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