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CVV CVD設備

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  • 4.450
  • -0.020-0.45%
收盤價 04/30 16:00 (美東)
3036.91萬總市值-7177市盈率TTM

關於CVD設備公司

CVD Equipment Corp 從事化學氣相沉積設備、定製氣體控制系統的製造,以及適合合成各種一維納米結構和納米材料的工藝設備生產線和一系列爐子,所有這些都是用於生產半導體和其他電子元件的。公司通過 CVD 設備、CVD 材料和 Stainless Design Concepts 這幾個部門運營。它從 CVD 設備部門獲得最大收入。CVD 設備部門負責製造和銷售化學氣相沉積、物理氣相傳輸以及類似設備。

公司介紹

公司代碼CVV
公司名稱CVD設備
上市日期2001/06/04
成立日期1982
CEOMr. Emmanuel Lakios
所屬市場納斯達克
員工數量128
證券類型海外普通股
年結日12-31
公司地址355 South Technology Drive
城市Central Islip
省份紐約州
國家美國
郵編11722
電話1-631-981-7081

董事高管

  • 姓名
  • 職務
  • 年薪
  • Emmanuel Lakios
  • Chief Executive Officer, Director and President
  • 75.89萬
  • Richard A. Catalano
  • Chief Financial Officer, Executive Vice President, Secretary, Treasurer and Principal Accounting Officer
  • 18.05萬
  • Kevin R. Collins
  • Vice President and General Manager, SDC Division
  • --
  • Warren David Cheesman
  • Vice President, Manufacturing Operations
  • --
  • Dr. Maxim S. Shatalov
  • Vice President, Engineering and Technology
  • --
  • Dr. Jeffrey A. Brogan
  • Vice President, Sales and Marketing
  • 30.52萬
  • Lawrence J. Waldman, C.P.A.
  • Chairman of the Board and Lead Independent Director
  • 15.30萬
  • Debra Wasser
  • Independent Director
  • --
  • Raymond A. Nielsen
  • Independent Director
  • 9.00萬
  • Dr. Robert M. Brill, PhD
  • Independent Director
  • 9.00萬
  • Dr. Ashraf Wagih Lotfi
  • Independent Director
  • --
  • Conrad J. Gunther
  • Independent Director
  • 9.00萬

分析

分析師評級

暫無數據

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