中国研发可生产8纳米下晶片的DUV光刻机
内媒报道,中国工信部印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》通知,电子专用装备列表包括「氟化氩光刻机」的深紫外光光刻机设备,核心技术指标是「晶圆直径300mm,照明波长248nm,65纳米以下分辨率,以及8纳米以下套刻能力,意味著这部国产DUV可生产8纳米及以下晶片。此前美国及荷兰收紧对中国的光刻机等的晶片设备出口,报道指若中国能制造生产8纳米及以下的光刻机,意味著未来绝大
突发!美确定上调对华产品关税,电动汽车提至100%
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中芯国际跌0.07%,成交额5.53亿元,后市是否有机会?
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中芯国际9月9日获融资买入2567.59万元,融资余额27.17亿元
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英特尔或陷入“存亡危机”,半导体巨头的宿命?
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中芯国际(00981)因受限制股份单位获行使而发行合计15.99万股
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