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事关下一代EUV光刻机,ASML宣布
如果您希望可以时常见面,欢迎标星 收藏哦~来源:内容由半导体行业观察(ID:icbank)编译自cnbc,谢谢。
阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用:最早2025年大量生产High NA EUV
快科技6月4日消息,据媒体报道,比利时微电子研究中心(IMEC)与阿斯麦(ASML)宣布在荷兰费尔德霍芬(Veldhoven)开设联合High-NA EUV光刻实验室(High NA EUV Lithography Lab)。该实验室经过多年的精心构建与集成,现已全面准备就绪,将为全球领先的逻辑和存储芯片制造商以及先进材料和设备供应商提供尖端技术支持。实验室内的核心设备为一台原型高数值孔径EUV扫
美股可能会“成也英伟达,败也英伟达”
或许到了从人工智能行情中撤出,转向道琼斯指数的时候了。
快讯 | 阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用
ASML 和 Imec 联合开设高NA EUV电子紫外光刻实验室,为前沿半导体生态系统提供早期开发平台
世界领先的纳米电子和数字技术研究和创新中心Imec和半导体行业领先的光刻供应商ASML Holding N.V.(ASML)宣布在荷兰费尔德霍芬开设高NA EUV光刻实验室,该实验室由ASML和imec共同运营。
芯片,突传重磅利好!
全球芯片赛道传来重磅利好数据。
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